二手 ANATECH / TECHNICS RF-2C #9213270 待售

ANATECH/TECHNICS RF-2C是一種中真空濺射設備，專為薄膜沈積在基板上而設計。它用於金屬、陶瓷和復合材料的精密沈積，借助真空室。ANATECH RF-2C濺射系統主要用於研究、薄膜沈積、表面工程和電子元件制造。TECHNICS RF-2C利用來自一系列真空產生模塊的射頻（RF）功率來創建強磁場。這種高效、經濟高效的濺射工藝利用高頻提高等離子體氣體中離子的能級，並將其加速向目標表面，導致薄膜沈積均勻。因為它不需要高水平的真空，RF-2C需要不到其他濺射系統能量的三分之一。該裝置裝有三個磁控管：一個和兩個雙磁控管，其中包括鈦靶和一個歐瑞康磁控管。ANATECH/TECHNICS RF-2C中還包括各種其他基板支架、工藝監測器和傳感裝置。該機器能夠容納各種類型和大小的基板和目標。歐瑞康磁控管等元件可以定制，以滿足特定的應用要求。為確保對氣流和沈積參數的精確控制，該工具配備了集成數字壓力、耐壓陶瓷棒、質量流量計和氣體混合面板的真空室。ANATECH RF-2C還配備了可編程的電力、溫度和功率調節系統，使用戶能夠輕松監控和控制過程參數。最先進的TECHNICS RF-2C資產旨在最大限度地提高薄膜沈積的效率和準確性。其優良的控制特性保證了薄膜的均勻沈積，不會影響其質量或壽命。RF-2C是一個可靠和經濟高效的濺射模型，非常適合研究和其他商業應用。