二手 BALZERS / EVATEC Clusterline 200 #9248388 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9248388
晶圓大小: 6"
優質的: 2007
Physical vapor deposition system, 6"
Can be configured for 4"-8"
Supports thin wafers and warped wafers
(6) Process modules:
Degas module
Au (gold) sputter
Ti (titanium) sputter
Ni (nickel) sputter
Pd (palladium) sputter
Ag (silver) sputter
Includes:
(2) Load lock cassette stations
CTI-CRYOGENICS 9600 Compressors
CTI-CRYOGENICS Cryo pumps on PVD chambers
ADVANCED ENERGY Pinnacle DC power supplies
(2) User interface stations: Front and rear
Foreline vacuum pump
Control rack:
Power supplies
Controllers
AC Power distribution
Signal light tower
2007 vintage.
BALZERS/EVATEC Clusterline 200是專門為工業、學術和研究應用而設計的濺射沈積設備。它由瑞士公司EVATEC開發,采用垂直配置,允許多種塗層配置。該系統由一組濺射源組成,可對大面積薄膜厚度均勻性進行更精確的控制。它的腔室可以被編程成創建任何種類的塗層,從高反射率層到更多的保護性塗層。EVATEC Clusterline 200還包括一個RF-couple等離子體源、一個用於沈積速率控制的光發射監測以及一個原位端點探測器。BALZERS Clusterline 200的多源配置提供了多種優勢,包括卓越的附著力、均勻性和可重復性。它還提供了改進的工藝均勻性,使沈積較厚的層與厚度輪廓精確控制。此功能在材料選擇方面提供了更大的靈活性,允許各種尺寸、材料、形狀和地形。Clusterline 200的亞毫米精度允許更好的沈積結果,具有更平滑、更平坦甚至更平滑的表面。此外,由於其專利塗層技術,該裝置減少了塗層厚度的不均勻性,這可能是由濺射顆粒引起的。其高溫和基板加熱能力,加上優化的氣流,使得沈積具有高光學性能的薄膜成為可能。此外,該機器還配有多種不同沈積目標的電極。這意味著用戶可以根據自己的要求選擇最合適的材料,同時監視每個周期期間和之後的過程參數。BALZERS/EVATEC Clusterline 200非常易於使用,並且與一系列計算機友好的軟件工具兼容。這允許用戶遠程監視和控制該工具,使他們能夠訪問精細的流程數據。維護資產確保沈積過程在整個操作過程中保持安全模式。EVATEC Clusterline 200保證了高質量的生產效果和更好的生產性能。
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