二手 BOSCH VS-24C #9097913 待售
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ID: 9097913
RF Magnetron deposition system
Chamber (DxH): 24" x 12"
Target: Aluminum oxide (Al2O3 ), 12"
(5) Silicon wafer size tooling systems, 6"
Dual instrument rack, 19"
(2) CTI Cryo-Torr 8 Cryopumps, 8"
Cable
Conductance valve
CTI 8300 Compressor with 8001 Controller
Magnetron source with RF Match system, 14"
MKS Vacuum gauge with valve and process control system
Temperature and thickness control
Electro pneumatically actuated valve
VCS Vacuum system controller
VSC RS-232 Sense analog and digital signal
Does not include load lock
RF Matching power supply: 2 kW
Working hours: 2000 Hours.
BOSCH VS-24C是一種最先進的濺射設備,在各種研究和工業應用中為精確高效的薄膜沈積而設計。這一先進的系統利用濺射工藝,這一技術涉及用高能離子轟擊目標材料,將原子噴射並沈積到基板上,從而制造出具有非凡均勻性和控制性的高質量薄膜。VS-24C提供了多種可定制的特性和功能,使其成為薄膜沈積的通用和可靠的工具。BOSCH VS-24C的主要優點之一是其優越的真空裝置,這對於保持清潔穩定的沈積環境至關重要。該機配備了高性能真空泵和壓力表,確保腔室內部的低壓氣氛,最大限度地減少汙染物的存在,提高沈積膜的質量。真空工具還能夠精確控制濺射過程參數,如壓力和氣體流速,以達到所需的薄膜性能。VS-24C的另一個重要特點是其先進的電源單元,它為濺射目標材料提供了必要的能量。該資產提供了廣泛的電源設置和脈沖模式,允許用戶根據自己的特定要求定制濺射過程。電源裝置的設計是提供一致和均勻的濺射,導致高沈積速率和優秀的膜均勻性跨越大基板區域。BOSCH VS-24C還配備了可靠的目標持有人模型,可實現輕松快速的目標轉換,最大限度地減少停機時間並提高生產率。設備支持各種目標材料,包括金屬、氧化物和氮化物,允許用戶沈積廣泛的薄膜成分。目標持有者系統的設計具有穩定性和精確度,保證了目標材料的精確定位,以實現最佳的濺射性能。除了硬件功能外,VS-24C還具有用戶友好的控制界面,可直觀操作和監視濺射過程。該單元配有觸摸屏顯示屏和綜合軟件包,允許用戶設置和調整沈積參數,監控實時過程數據,分析沈積結果。直觀的界面為用戶提供了創建自定義沈積配方和針對特定應用優化膠片屬性的靈活性。總體而言,BOSCH VS-24C濺射機是一種精密可靠的薄膜沈積工具,提供卓越的性能、靈活性和易用性。無論是在研究實驗室、學術機構還是工業設施中,這種先進的工具都非常適合廣泛的薄膜沈積應用,包括光學塗層、半導體器件和磁性存儲介質。憑借其創新的設計和先進的能力,VS-24C為濺射技術的精度和效率設定了新的標準。
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