二手 CANON / ANELVA C-7100 #9153006 待售

CANON/ANELVA C-7100濺射設備是一種先進的薄膜沈積系統，用於在基板上沈積薄膜層。它用於制造薄膜光學和光電器件，如薄膜晶體管（TFT）。該單元具有多種沈積參數選擇，如電源（DC、脈沖DC、射頻）、目標暴露區域、目標組成等。該機設計用於處理直徑達200毫米的基板，足以滿足大多數工業應用。CANON C7100工具的構建是為了在經濟高效的條件下提供優質的薄膜沈積工藝。利用多目標磁控管濺射源和高密度二極管濺射源兩種濺射源。磁控管濺射源能夠沈積電導率增強的薄膜.二極管濺射源具有較高的沈積速率和均勻性.兩個濺射源可以用不同的沈積參數分別編程，以達到所需的薄膜性能。ANELVA C 7100包括一個多區域真空室，其疏散壓力為1 × 10-3 Pa，該資產配備了一個內置熱處理爐，用於膜層沈積後處理。此外，該模型與多種氣體輸送系統兼容，如表面預處理和氣體引入。該設備采用直觀的觸摸屏圖形用戶界面（GUI）,易於操作。GUI提供了控制系統參數、監視單位變量和捕獲數據所需的所有選項。該機器還包括一個自動配方存儲工具，以便於召回以前保存的操作條件和配方。CANON/ANELVA C7100具有許多先進的工藝，包括等離子體輔助沈積薄膜和形成蝕刻面膜。它提供了多種沈積速率和均勻性監測、多點濺射目標映射功能以及預先設定的基板加載和卸載。該資產設計環保，具有集成渦輪分子真空泵和低功耗模式。CANON/ANELVA C 7100是一種強大且經濟實惠的濺射模型,可實現卓越的薄膜沈積質量。它具有良好的沈積均勻性和廣泛的工藝能力。此外，直觀的觸摸屏用戶界面使設備易於使用和編程。