二手 CANON / ANELVA C-7100GT #9188155 待售
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已售出
ID: 9188155
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
PVD Gate metal deposition system, 12"
CANON / ANELVA MDX400
Tandem core
Software version: 100902
Upgraded on 2009
Hardware configuration (Fab):
Main system:
Equipment front end module (EFEM)
Quadro load lock
(2) Transfer chambers
Pass chamber (with wafer aligner)
FOUP System:
(2) RORZE Load ports
Handler system:
Transfer robot double end-effector (EFEM)
(2) Wafer handling units dual-arm (Transfer chamber)
ATM Wafer aligner (EFEM)
VAC Wafer aligner (Pass chamber)
Process chamber:
(3) PVD PCM-X Chambers
(2) PVD 2PVD-EX Chambers
PVD 4/5PVD-EX Chamber
Gas heat chamber
Hardware configuration (Subfab / Auxilliary units):
(4) Power distribution racks
Compressor rack with cryo compressor
Control rack for core
(2) Control racks for (2) PVD-EX
Control rack for 4/5 PVD-EX
(3) Control racks for PCM-X
Control rack for gas heat
EES Rack
(3) Chillers
2007 vintage.
CANON/ANELVA C-7100GT是一種緊湊、高性能的濺射設備,專為各種薄膜沈積應用而設計。該系統具有高速、精確控制的直流磁控管濺射儲存器，可用於各種沈積。該濺射裝置為先進的薄膜加工提供了最佳的沈積速度和優越的基材質量。它能夠在大型基板上創建精確、均勻的層，並精確控制膜的厚度和組成。CANON C-7100GT的主要部件是源、基板支架、旋轉濺射室、真空機、動力單元、鎖載室和控制器。該源由一個或多個磁控管組成,這些磁控管具有多種陰極材料,用於創建材料的薄層。基板支架能夠處理直徑達300毫米的大型基板，並具有旋轉和傾斜樣品的能力。旋轉濺射室旋轉底物，以確保膜沈積均勻。真空工具維持工作環境，去除反應產物。鎖載室減輕了工作室壓力和溫度的波動。最後，控制器負責電源、反應參數以及濺射過程的監控。ANELVA C-7100GT適用於光學塗層、反射塗層、抗反射塗層、表面保護塗層、納米結構塗層、金屬層沈積、封裝等多種薄膜沈積應用。它能夠使用各種類型的工件材料，如聚合物、金屬、陶瓷和復合材料。它提供精確的沈積控制,薄膜厚度變化小至0.2 nm.該資產專為高吞吐量而設計,以確保易於準備和靈活操作。C-7100GT是一款可靠耐用的車型，使用壽命長，維護要求低。它具有安全設備,包括集成的緊急停止和安全功能,可保護操作員、組件和環境。該系統的設計符合公認的安全標準和法規，並為遠程控制和監測提供各種選擇。該單元還提供精確準確的工藝優化和數據收集，使用戶能夠監測和分析薄膜沈積工藝的結果。
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