二手 CANON / ANELVA C-7170C #9031249 待售

CANON/ANELVA C-7170C Sputtering Equipment是一種經濟高效、性能驅動的濺射沈積系統,用於生產具有極好的可重復性的薄膜。CANON C-7170C單元設計用於工業生產、研發和實驗室應用。該機采用先進的掃描儀、自動基板裝卸，以及多種工藝選擇，包括A-離子清洗、濺射沈積、電氣測量和現場觀察。ANELVA C-7170C工具由兩個組件組成：兩室濺射資產、兩個射頻電源、自動移動掃描儀、基板支架、真空泵、電離儀和控制器。雙室模型既可用於氙氣濺射，也可用於靜電濺射。兩個射頻電源為目標提供必要的電源,以實現較高的沈積速率,而自動掃描儀則允許選擇性區域沈積所需的薄膜。基板支架的設計允許在直徑為8英寸或6英寸的窗口中均勻應用薄膜。高真空泵為濺射過程提供了必要的真空水平，電離計有助於監測設備的絕對壓力。最後，控制器系統使設備能夠自動運行，並提供機器性能的實時反饋。C-7170C工具提供了廣泛的工藝可能性，如高ARS（Argon Sputter）、低ARS（Sputter）、靜電濺射沈積、蝕刻、原位觀測和電氣測量。資產可以處理高分子、金屬、陶瓷、氧化物等難度不同的材料。再者，該模型可用於生產範圍廣泛的薄膜，從金屬到金屬合金，以及無定形、晶體和復合半導體。該設備還可用於生產厚膜，表面一致均勻。該系統提供了對工藝參數的出色控制,並具有每個基板6秒的快速基板更換時間,從而為生產應用提供了高吞吐量。此外，該裝置能夠以5 x 10-7 Torr的基本壓力進行超精密離子束蝕刻，以實現極低的材料表面汙染。機器的自動化功能有助於降低人工成本和提高整體刀具吞吐量,使其成為生產運行的理想選擇。總體而言，CANON/ANELVA C-7170C是用於生產、研發和實驗室應用的極好的成本效益和性能驅動的濺射沈積資產。該模型的特點使用戶能夠實現廣泛的沈積過程，具有極好的可重復性和產率。