二手 CANON / ANELVA C-7500L #293731713 待售

CANON/ANELVA C-7500L濺射設備是一種超高真空儀器，用於為薄膜結構沈積薄膜。主要用於存儲器、耐用電子、太陽能電池、平板顯示器等半導體器件制造工藝。它是當今最高效的濺射系統之一,因為它具有先進的自動化和控制功能,能夠節省時間、精確和可靠的薄膜沈積。佳能C-7500L有兩個濺射室，每個濺射室有三個不同金屬和合金的獨立靶標。這允許以嚴格的精度沈積多層、高度復雜的結構。它還允許沈積具有標準濺射系統無法達到的特性的薄膜。濺射系統的主要部件包括等離子發生器、離子源和濺射槍組件。等離子體發生器產生一個電離氣體或等離子體，然後由濺射槍引導到基板上。離子源用於為濺射過程提供離子，濺射槍組件包括陽極、陰極、磁控管和電源。ANELVA C-7500L還具有RF發電機功率、濺射時間、氣體壓力和基板溫度等多種可調節的工藝參數。這使得C-7500L非常適合用於研發，因為具有多種成分和厚度層的精密薄膜可以高精度地生產。CANON/ANELVA C-7500L具有較高的通量速率，與其他濺射系統相比，可以更快地沈積薄膜。此外，該單元的軟件高度用戶友好，並提供了多種分析和控制功能。該機還包含一個功能強大的數據記錄工具，使用戶可以輕松收集和分析薄膜數據。總體而言，CANON C-7500L是一種多功能高效的超高真空濺射資產，非常適合研發。它能夠生產具有標準濺射系統無法達到的性能的薄膜，並具有快速、精確沈積的可編程工藝參數。其軟件用戶友好性強，通量率高，是薄膜沈積的理想選擇。