二手 CANON / ANELVA C-7540HCL #9031243 待售

ID: 9031243
優質的: 2000
Sputtering system Substrate size: 10.5 x 10.5 mm Taget: 630 x 200 Turbo pump 2000 vintage.
CANON/ANELVA C-7540HCL是一種濺射設備,設計用於將金屬或介電層沈積到各種材料的表面上,如半導體、金屬零件、聚合物薄膜和晶片。該系統采用一種稱為磁控管濺射的工藝,能夠在高達350°C的極高溫度下沈積材料。該機組還配備了高級多軸機,並采用多頻雙源電源,提供更高的均勻性和沈積率。CANON的先進功能C-7540HCL使其非常適合用於精密零件和元件的生產,以及用於創建薄膜層。該工具由濺射源、高速多軸處理室、輔助物料處理資產和控制模型組成。濺射源的工作原理是使用圓柱形目標將真空產生的金屬或介電層沈積到基板上。高速多軸加工室然後加熱基板和目標,使材料沈積。輔助物料處理設備便於將基材裝卸到系統中。最後,控制單元允許對沈積過程進行精確控制。ANELVA C-7540HCL能夠產生高均勻度的精密薄膜層。它還可以沈積各種金屬和合金,並能夠以精確和速度創造細紋、凹槽和圖案。此外,該機還配備了幾種安全機制,如緊急停止開關和冷卻劑-壓力監測工具。C-7540HCL是一種可靠的資產,能夠生產高質量、精確的薄膜層。它利用先進的工藝和高性能的部件來確保沈積工藝的質量和效率。該模型的優良特性和安全機制使其適用於眾多行業的制造應用。
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