二手 CANON / ANELVA I-1060 SVII Plus 1 #9120224 待售
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ID: 9120224
優質的: 1996
System
Configuration:
L1 Etch chamber
Turbo pump: Osaka TG-550
RF: WMA-1, double frequency
L2 Deposition chamber
Cryo pump: CAP83R
DC Power: PDC-870D
L3 Deposition chamber
Cryo pump: CAP83R
DC Power: PDC-609
R3 Deposition chamber
Cryo pump: CAP83R
DC Power: PDC-307E
R2 Despostion chamber
Cryo pmp: CAP83R
DC Power: PDC-307E
R1 Degas chamber
Lamp heater: 400°C
L/L Left chamber
Cryo pump: CAP83R
L/L Right chamber
Cryo pump: CAP83R
Includes:
Edwards dry iQDP80
Cryo compressor CRC 874
Main control rack
operation rack
RF Generator rack
DC Power supply rack
UPS PS1203
PVD Rack
1996 vintage.
CANON/ANELVA I-1060 SVII Plus 1是一種最先進的多功能濺射設備,設計用於進行物理和化學濺射過程。這種高性能濺射系統能夠產生各種材料應用,如薄膜、多層和復合材料。它非常適合用於需要精確濺射的行業,如MEMS(微機電系統)應用、半導體、傳感器和光電子。該機組使用中頻電源(MFPV),其設計目的是在減小機器尺寸的同時保持盡可能高的微波功率輸出。這樣即使在高濺射速率下也能實現濺射過程的均勻性。CANON I-1060SVII PLUS-1由頂裝主工具(包括源、開關和腔室)和符合人體工程學設計的操作員控制臺組成。它還具有底部安裝的磁控濺射頭和源,以及匹配的獨立濺射源和目標組件。該資產還具有突破性的測量和控制功能,如自動電源反饋、數字控制、高速過程控制和數據記錄模型。這確保了對濺射沈積速率的精確控制,以及記錄信息以進行工藝優化和改進工藝能力的能力。根據許多應用程序的要求,濺射頭和濺射源可最大程度地提高均勻性和可重復性。它能夠產生極小的濺射顆粒尺寸,使其能夠產生均勻的納米結構薄膜,這對於先進的電子設備、傳感器和MEMS產品來說是一個極大的優勢。該設備具有出色的靈活性,能夠滿足各種濺射過程要求,並能夠定制每個應用程序。這包括自動交換目標、雙源濺射、關閉和恢復啟動操作以及噴嘴清洗操作,以確保系統的最高生產率和可靠性。ANELVA I-1060 SVII PLUS-1具有為表面處理提供最高吞吐量、精度和可靠性所需的所有功能。
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