二手 CANON / ANELVA ILC-1012 MKII #9144933 待售

CANON/ANELVA ILC-1012 MKII是為薄膜沈積應用而設計的直流觸發濺射系統。CANON ILC-1012 MKII采用電離物理氣相沈積（PVD）技術,能夠對具有多種材料的基板進行精確和一致的塗層。該系統由真空室、濺射管、高功率陰極、射頻等離子體發生器和用於增強離子束蝕刻的離子源組成。ANELVA ILC-1012 MKII的真空室設計為保持10e-4 Torr的高真空。采用陶瓷纖維和氧化鋁絕緣，提供優異的耐熱沖擊性能和均勻性。濺射目標旨在最大限度地減少目標侵蝕並最大限度地提高沈積速率，對於金、鉻、鋼、鎢、鋁和其他金屬的濺射速率高達300-700 nm/min。ILC-1012 MKII還具有高功率陰極,可向目標區域產生均勻的功率密度,並配有頻率調節直流電源。這提供了均勻的電力，以確保一致和精確的處理。射頻等離子體發生器在目標區域產生高度均勻的輝光放電。射頻發生器還具有從1MHz到60MHz的可編程頻率控制功能，以確保對功率密度和薄膜厚度的精確控制。CANON/ANELVA ILC-1012 MKII還具有用於高功率離子束蝕刻和離子輔助沈積的離子源。這在不引入反應性蝕刻氣體的情況下使目標材料汽化和電離，並產生均勻的磁場從目標區域掃走等離子體離子。離子源還具有從50V到1500V的可調加速電壓,允許從0.1瓦到30瓦的可變蝕刻功率。CANON ILC-1012 MKII是一種強大的濺射系統，旨在生產目標侵蝕最小的均勻薄膜。它非常適合廣泛的薄膜沈積應用，包括薄膜氧化物塗層、鐵電膜塗層、半導體膜塗層、介電膜。其先進的特點可以精確控制薄膜沈積。