二手 CANON / ANELVA ILC-1013 #9144935 待售

CANON/ANELVA ILC-1013是專門為納米薄膜沈積而設計的濺射設備，非常適合用於半導體制造和多層薄膜的制造。它是一種磁控管濺射系統，利用磁控管目標將高功率磁場釋放到目標表面上，以進行高效、精確的濺射。CANON ILC-1013是為精確控制層厚而設計的，可以沈積只有幾納米厚的材料層。它具有易於設置的直觀用戶界面和自動沈積的多種功能。ANELVA ILC-1013采用一管陰極結構，可用於將薄膜沈積到各種薄膜基板上。它具有兩個獨立和可編程的腔室溫度，以及高精度的基板持有者溫度控制特點，以最佳的基板穩定性。該裝置利用先進的分析機器對薄膜沈積過程進行現場監測。ILC-1013包括兩支濺射槍，設計方便目標交換和高度可重復性。該槍可以配置為單或雙元件濺射，允許用戶根據應用要求選擇最佳模式。該工具還為每支濺射槍配備了獨立控制器，使用戶能夠為每支槍編程自定義配方，實時調整濺射參數。CANON/ANELVA ILC-1013濺射資產的設計滿足各種薄膜沈積要求。它具有一個通常能夠容納4英寸基板的腔室大小，以及一個可選的旋轉基板支架，允許處理多達6英寸的基板。此外，該模型還包括一個可調氣體流量設備和一個真空水平控制器，用於真空水平的自動控制，以確保精確和可重復的膜沈積。總體而言，CANON ILC-1013是一個精心設計的濺射系統，為用戶提供對層厚的精確控制，並為高級沈積結果定制配方編程。從高功率磁場到直觀的用戶界面和基板持有者溫度控制，ANELVA ILC-1013可以幫助簡化薄膜沈積工藝，在廣泛的應用中獲得優異的效果。