二手 CANON / ANELVA ILC 1051 MKII #9390490 待售

CANON/ANELVA ILC 1051 MKII是一種用於物理氣相沈積過程的濺射設備。濺射是一種用於在材料上創建薄膜的工藝,通常是在表面上創建金屬膜。這種濺射系統由多等離子體離子源供電，專門設計用於提供優越的表面質量和較高的沈積速率。CANON ILC 1051 MKII具有由不銹鋼組成的真空室，容積約260升。它配備了四軸直線電機驅動器，允許精確的三維濺射沈積。該單元還配備了一個負載鎖室和一個排氣泵，用於快速疏散腔室以進行高效的過程循環。對於濺射，ANELVA ILC-1051 MKII利用了多達四個陰極，允許同時沈積多層薄膜。每個陰極由要濺射的目標材料組成，機器配備了可調電源，能夠向每個陰極輸送高達4500瓦的功率。該工具還配備了用於高頻濺射的可調變頻射頻（RF）電源，有助於促進高沈積速率和均勻層厚。ILC-1051 MKII能夠運行各種濺射過程,包括高速度和低速度濺射、直接、成角度和雙濺射,以及旋轉陰極濺射。該資產還具有可移動的中板，允許將薄膜沈積到各種大小和形狀的基板上。ILC 1051 MKII配備了智能控制器，可監視和控制濺射過程。該控制器包括一個觸摸屏顯示、可編程按鈕和狀態指示器，允許操作員實時監控濺射過程並相應調整參數。控制器還包括一個條形碼讀取器,用於無縫集成到自動濺射系統中。總之，CANON/ANELVA ILC-1051 MKII是一種可靠的濺射模型，具有較高的表面質量和較高的沈積速率。這臺設備配備了多等離子體離子源、4500瓦可調電源和可移動的中板，允許將薄膜沈積到各種尺寸和形狀的基板上。該系統還配備了智能控制器，允許操作員實時監控濺射過程，並相應調整參數。