二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #293740222 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一種濺射設備，設計用於將材料薄膜沈積到多種基板上。該系統廣泛應用於研發、工業和大學實驗室，並已廣泛應用於半導體工業中，將介電層和金屬層沈積在矽和砷化的晶片表面。CANON ILC 1051是一種濺射裝置，使用磁控濺射槍將薄層材料沈積在基板表面。濺射槍利用直流（DC）和無功射頻（RF）功率使目標材料汽化並沈積到基板上。該機設有一個石英真空室，該真空室配有基板支架、一組多極永磁體和用於測量室內壓力和溫度的離子計。基板支架設計用來容納直徑不超過9.8英寸的基板。直流和射頻電源可以單獨調節，以提供最佳的沈積速率和質量。磁體產生均勻的磁場，有助於降低背景等離子體，提高沈積層的均勻性。該工具具有許多有用的功能，使其適合廣泛的應用。它包括一個集成的水冷目標，允許延長目標壽命，以及用於在沈積前清洗或蝕刻基板的氧蝕刻模塊。它還包括一個集成的快門資產，以改進對外部顆粒和汙染物的保護。ANELVA ILC-1051具有高度的可控性，允許精確和可重復的沈積。直流和射頻電源的組合在沈積過程中提供了高度的靈活性，具有控制沈積速率和厚度、均勻性和組成的能力。該模型還能夠為不同類型的沈積提供不同的反應性氣體。CANON ILC-1051是理想的沈積設備，適用於需要最高水平的控制和準確性的應用。它提供了極佳的沈積均勻性，可用於創建高質量的層，用於廣泛的應用。