二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #293821354 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是設計用於半導體加工的濺射設備。它能夠將各種材料沈積到各種底物上，包括氧化物、金屬、氮化物和有機鈍化層。CANON ILC 1051還提供了使用磁控管濺射技術沈積包括鈦、鉻、銅、鋁等多種材料的薄膜的選項。該系統配有集成工藝室和專利負載鎖單元。這使機器能夠快速、高吞吐量地將材料沈積在基板上。此外，載荷鎖使多種基板能夠一次裝卸，而不會使腔室內部暴露於受汙染的空氣中。集成工藝室加熱均勻，工作面積大，允許厚度變化的薄膜沈積。它還能夠生產高度均勻的薄膜，對薄膜厚度進行精確控制。該工具配有可調氣流控制板和濺射壓力監測儀。這確保了腔室內的環境受到控制，並允許使用者調整氣壓以達到所需的濺射速率。資產還配備了一個旋轉機構，允許底物在沈積過程發生時旋轉，有助於減少由於不均勻的薄膜沈積造成的均勻性缺陷。該模型采用直流電源和多板設備控制濺射速率。這樣就可以精確控制沈積速率。直流電源還使系統能夠將材料沈積到各種基材類型上，包括厚度不同的大基材和基材。ANELVA ILC-1051是一個可靠、高效的單元,為半導體行業提供了廣泛的功能和優勢。它能夠將不同厚度的薄膜沈積到各種基板上，並能精確控制濺射速率。此外，它還提供了一個較大的工作區域，並有一個集成的負載鎖定機，用於快速的底物裝卸，使其成為半導體加工的理想選擇。