二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9033667 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一種高精度、計算機控制的濺射設備，設計用於提供材料在基板上的精確沈積。它主要用於制造半導體元件，但也可用於工業和醫療應用。該系統由四個主要組件組成：濺射室、燒蝕室、射頻發生器和控制單元。濺射室包含作為原子源的濺射靶和放置在腔內基板支架上的基板。燒蝕室包括一個射頻發生器，它提供了一個強大的高頻電場，用於產生清除目標材料並將其沈積到基板上所需的能量。控制機是一臺微型計算機，允許用戶定制電壓、壓力、氣位等多種參數，以滿足特定的應用需求。佳能ILC 1051的一個關鍵特點是其高濺射吞吐量。該工具的高功率射頻發電機可以比其他系統實現更快的濺射速率，使其沈積材料的速度比常規濺射系統快四倍。這也意味著更快的生產時間,這意味著更高的生產率。該資產還具有自動真空模型，允許用戶在清潔和沈積活動之間快速切換，進一步提高效率。此外，在任何給定的基板溫度下，它的精確自動控制確保了任何所需厚度的一致、均勻的薄膜。除了卓越的性能外，ANELVA ILC-1051是一款經濟實惠的濺射設備。對於預算有限的企業和實驗室來說，這是一個理想的選擇，因為它不需要與許多其他濺射系統相關的高昂成本。而且，它與最常見的半導體處理模塊兼容，其菜單驅動的控制和用戶友好的界面使操作和維護變得容易。總體而言,CANON/ANELVA ILC-1051是一種先進、可靠的濺射系統,可提供優異的性能,成本僅為一小部分。它是制造高精度半導體元件的理想選擇，其多功能性和易於操作，使其成為廣泛的工業和醫療應用的合適選擇。