二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9121831 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是為半導體、光伏和其他工業應用而設計的高精度濺射設備。它具有先進的離子束源、可編程過程控制器和模塊化設計，便於維護。該系統能夠進行標準離子束濺射、離子鍍和化學氣相沈積（CVD）工藝。CANON ILC 1051提供了一系列的基材和離子源，具有極好的精確度和重復性。該機組使用大功率離子束轟擊半導體器件，如太陽能電池或LED，產生所需材料的導電薄膜。離子束是由激光器產生的，然後將其聚焦並定向到基板上。基板是由多種材料構成，包括矽、氮化氙、鋁和碳化鎢。機器配備了一個可編程的過程控制器，可以精確控制濺射參數。這包括電壓、氣體流量、電流和功率。它還提供了對基板沈積速率和溫度的精確控制。離子束的功率和溫度也可以調整，以優化濺射過程。ANELVA ILC-1051是一種可靠、高效的濺射工具,在最小的停機時間內提供最大的性能。它旨在為各種濺射工作負載提供卓越的效果。該資產還非常適合要求高精度和可重復性的應用程序。它采用模塊化設計，便於維護和維修。CANON/ANELVA ILC-1051是廣泛工業應用的理想濺射模型。