二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9134662 待售

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ID: 9134662
Sputtering system AR HE N2 DA 2000 vintage.
CANON/ANELVA ILC 1051是一種物理氣相沈積(PVD)濺射設備,設計用於沈積具有精確控制的高質量薄膜。該系統配備了兩個陰極,可以設置在四種支持配置中的任何一種:直流、交流、射頻和DCMS。這允許靈活的操作,允許快速的材料循環和更高的工藝速率。該單元可以使用其高級操作機器在自動模式下操作,也可以在具有廣泛用戶定義參數的受控反饋環路內操作。該工具的氣相真空環境提供了最高效、最可重復的濺射沈積。該資產由一個10 kW磁控管式濺射源提供動力,該濺射源具有屏蔽磁體和受控磁場分割。電源配備最大3 kV的脈沖電壓,確保精確高效的處理。模型的模塊化設計為每個過程提供了獨立的腔室,有助於提供最大的過程靈活性。高精度和可調氣體分散器有助於確保氣體在晶圓上的均勻分布,高精度基板支架有助於優化等離子體穩定性。該設備還配備了先進的原位診斷系統,提供即時反饋並協助優化過程控制。單元內的過程傳感器允許快速準確地調節氣體壓力、溫度、電流和電壓。這樣可以確保用戶始終獲得最佳結果。該機還配備了多點測量設施,用於測量濺射材料。這有助於確保薄膜達到所需的厚度和均勻性。CANON ILC 1051有一個用戶友好的控制工具,允許用戶對過程進行實時調整和監測。它還提供了一個內置的數據記錄功能,允許更輕松地存儲和檢索流程結果。此外,該資產易於維護,並在需要時提供現場幫助。ANELVA ILC-1051濺射模型是一種先進的PVD沈積設備,為各種應用提供精確、可重復、高效的濺射沈積。其設計、高級功能和頂級性能使其成為滿足所有薄膜沈積需求的可靠且經濟高效的解決方案。
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