二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9156540 待售

CANON/ANELVA ILC 1051濺射設備是一種先進的高精度工藝工具,能夠沈積具有優良均勻覆蓋和階梯覆蓋的薄膜,用於制造集成電路、數據存儲和其他高科技設備。CANON ILC 1051具有集成式濺射系統，帶負載鎖室，集成式RF/DC電源，高真空單元和可傾斜平面磁控管陰極，用於直流磁控管濺射。此外，該機還配備了低壓3 MHz射頻偏置，提供可控的轟擊威力，促進濺射過程。低壓射頻功率增強了濺射沈積的均勻性，增加了薄膜的耐熱損傷能力。可傾斜的平面陰極可以達到高達150°C的溫度，為沈積過程創造更清潔的表面。ANELVA ILC-1051利用「雙弧」技術和可單獨調節的弧來提供均勻性和可重現的濺射結果。這一技術涉及兩個旋轉弧線，從而提高了吞吐量，提高了工藝質量。采用雙弧技術，可以精確調整電弧之間的距離，從而實現非常薄的層沈積。此外，CANON/ANELVA ILC-1051還配備了獨特的離子加速技術，有助於提高薄膜質量、附著力和耐蝕刻性能。此外,ANELVA ILC 1051濺射工具采用高速過程控制器設計,包括直流電源、射頻電源、高真空資產和其他控制,以及若幹安全系統,以實現最大程度的過程可靠性和免維護操作。它還包括多種功能,旨在提供更好的工藝精度、微調功能、簡化維護、提高安全性和減少停機時間。ILC-1051控制器還以自監控模式運行,並記錄每個過程的數據,以確保整個沈積物的層厚一致。總之，ILC 1051是一種強大的濺射模型，具有先進、準確、可靠的特點，可用於高科技設備的制造。它采用雙弧技術,具有可單獨調節的弧線,可提高工藝質量,采用離子加速技術提高薄膜附著力和蝕刻阻力,以及具有監控能力和先進安全系統的高速控制器。