二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9220287 待售

CANON/ANELVA ILC 1051濺射設備是一種先進的高性能系統，用於薄膜沈積的工業和研究領域。它是一個計算機控制的電解機械多軸反應性濺射單元（CCEMMRS），具有多軸離子源和多軸樣品級。該機器設計用於薄膜的精確和可重復沈積，通過創造一個環境，使離子和中子與底物相互作用形成薄膜。該工具的最大濺射速度為每秒100納米（nm/s），能夠沈積各種材料。CANON ILC 1051資產配備了多軸離子源和多軸采樣級，允許精確控制離子束的方向和強度。該模型包括反應性氣體供應、排氣設備和計算機控制的數據采集系統。該單元的最大濺射速度為100 nm/s，具有沈積金屬、合金、化合物等多種材料的能力。機器允許控制能量、入射角和離子束聚焦，以實現高度均勻的沈積層。該工具由機械組件和計算機控制組件組成。機械部件包括樣品級、離子源、廢氣資產和反應性氣體供應。離子源用於生成離子束，而樣品級用於移動要濺射的底物。反應性氣體供應提供了在過程中添加反應性氣體的能力，而廢氣模型用於收集任何釋放的顆粒。計算機控制部件包括一個數據采集設備，該設備提供關於濺射過程的反饋和數據，用於過程監測和控制。ANELVA ILC-1051濺射系統是一種工業級單元，能夠生產均勻、高質量的薄膜，對離子束的能量、入射角和聚焦有極好的控制。該機是一種多軸計算機控制的電解和機械反應性濺射工具，允許材料在廣泛的基板上精確沈積。該資產提供了對濺射過程的精確控制，使得高質量的薄膜沈積具有極好的均勻性和附著力。