二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9257784 待售

CANON / ANELVA ILC 1051
ID: 9257784
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6".
CANON/ANELVA ILC 1051濺射設備是為薄膜沈積而設計的電磁控濺射系統。它是一個高性能、高精度、自動化的工業單元,提供出色的薄膜均勻性和可重復性。CANON ILC 1051可以使用兩級和三級工藝沈積金屬、氧化物和氮化物。適用於多種材料,可以將薄膜沈積在多種厚度,從很薄的層到厚的薄膜。它具有高純度的等離子體腔和超高真空環境以及無與倫比的汙染控制機器。這種濺射工具由先進的X-Y表控制,可以精確定位濺射目標和基板。ANELVA ILC-1051具有可調的z-anais資產,提供了在曲面上沈積薄膜的能力。它配備了先進的冷卻模型,為濺射目標和基板提供必要的熱控制。CANON ILC-1051具有廣泛的組件,包括可傾斜的目標、獨立的質量流控制器、溫度控制器以及為濺射過程提供動力的自動等離子發生器。它還配備了計算機控制的診斷系統,用於監測濺射過程和沈積膜。這種濺射設備的獨特之處之一是其先進的激光分析系統,可以提供沈積膜的組成和結構的詳細數據。該單元還可用於測量臺階高度和層厚度以及監測原位沈積特性。CANON/ANELVA ILC-1051自動化程度很高,即使對於經驗有限的用戶也很容易使用。它可以配置為滿足用戶的需求,它的模塊化設計可以方便維護和升級。它是一種可靠的機器,其卓越的性能和質量使其成為研發和工業用途的絕佳選擇。
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