二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9272190 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一種濺射設備，設計用於將薄膜沈積到基板上。在濺射中，目標被放置在真空室內，並被離子轟擊，導致目標表面的原子被釋放並沈積到基板上。CANON ILC 1051利用磁控管感應耦合等離子體（MICP）源在其腔室內產生一個氙氣或稀有氣體氦氣等離子體。等離子體源產生的磁場增加了離子束的方向密度，從而提高了膜沈積的覆蓋率和均勻性。ANELVA ILC-1051提供各種功能來幫助優化沈積。它有一個真空觀察窗口，可用於診斷目的，可用於確保適當的基板定位和掩蔽。系統的基壓約為1x10-4 Pa，沈積可達1x10-3 Pa，基板偏置電壓高達-2,500V。溫度可以從室溫控制到300攝氏度。該機具有內置聯鎖裝置，以確保安全和監控移動濺射槍和基板的機器中的電機的能力。該工具配有陰極饋熱喉，允許氣體和/或劑量控制。RF發生器選項可提供更高的離子密度,並能夠以更高的沈積速率運行。高容量渦輪泵和maxigauge壓力表為維持和監測真空室提供了必要的備用。此外，窗口可用於安裝原位光學測量設備，以便在沈積過程中監測薄膜生長。用CANON/ANELVA沈積的濺射膜ILC-1051具有良好的覆蓋面、均勻的表面和優異的表面粗糙度。薄膜具有良好的附著力和平整度.該資產具有很高的可靠性和可重復性，可用於沈積多層薄膜和各種應用，包括電子、MEMS和光電子。該模型還提供了許多軟件選項,可遠程訪問設備和其他有用的功能。