二手 CANON / ANELVA ILC 1060 #9248133 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
CANON/ANELVA ILC 1060是設計用於各種科學和工業應用的濺射設備。它是一個計算機控制的真空系統,利用物理氣相沈積將薄而均勻的材料層沈積到基板上。CANON ILC 1060具有很高的適應性,可以編程為精確操縱濺射目標組成和電流、沈積速率、流度、基板偏差等變量。其模塊化設計可實現高生產吞吐量,其卓越的過程控制和自動化允許可重復、可預測的結果。ANELVA ILC-1060的主要部件包括旋轉濺射源、基板支架和可旋轉目標。旋轉濺射源使用兩把槍,每把槍都能產生電弧和直流放電。基板支架可容納450毫米大小的基板,能夠同時容納最多四個基板。可旋轉目標濺射面可容納直徑達200毫米的濺射目標。可選的角度安裝目標和壓板可用於擴展目標區域覆蓋範圍。ILC-1060提供了多種濺射工藝,包括氙等離子體和反應性氣體濺射,其工藝控制高度可調,以滿足各種最終用戶的需求。一個主控制模塊可以被編程為精確操縱濺射目標組成和電流、沈積速率、流度和基板偏差。可選的二級控制模塊可用於處理諸如反應性氣體流量、腔室壓力和層厚等工藝參數。可以鎖定此模塊以防止未經授權的操作。CANON ILC-1060既靈活又經濟,是眾多應用的誘人選擇。其緊湊的占地面積和節能設計最大限度地減少了空間需求,並最大限度地節省了成本。高級安全系統和自動統計過程控制保持生產質量和可靠性。在流程序列結束時,一個流程後視覺單元檢查已完成的部件是否存在潛在的流程錯誤,並確保準確性。總體而言,ILC 1060是業界領先的濺射機器,非常適合各種科學和工業應用。其可靠的性能、卓越的工藝控制和可調節的設置使得它成為精確、高效地將材料薄層沈積到基板或晶片上的絕佳選擇。
還沒有評論