二手 CANON / ANELVA ILC 702 #293657154 待售

CANON / ANELVA ILC 702
ID: 293657154
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6".
CANON/ANELVA ILC 702是一種高精度磁控管濺射設備,用於生產高精度和均勻性的薄膜塗層。該系統能夠在各種基材上沈積薄膜,包括金屬、塑料、玻璃和陶瓷。CANON ILC 702單元能夠在從正常大氣壓到真空的大範圍壓力下進行濺射沈積。這是使用大功率直流磁控管濺射槍完成的,該槍使用磁增強真空至近真空室,工作壓力為10-2至20 mTorr,可以在0°C至800°C的溫度下工作。此外還包括高壓電源、電子束槍和氣體噴射機。ANELVA ILC 702工具裝有一個電機驅動單元,用於精確控制濺射炮。該單元能夠產生恒定的角速度,確保均勻沈積在基板上。電動旋轉底座在兩個水平軸上移動濺射槍,使大型目標和曲折表面能夠濺射。濺射槍的運動由資產的光學傳感器精確監控。ILC 702模型是針對沈積膜的高精度和均勻性而設計的。其濺射沈積速度高達0.3m/min,濺射速率高達1.2nm/s。均勻性通過高功率磁控濺射炮和旋轉底座實現。該設備還包括用於控制真空室內氣體壓力的氣體註入系統。這樣做是為了確保氣體在腔室中的均勻流動,並確保所需的介電材料特性。該單元還包括一個自動沈積室,在該室放置用於濺射過程的基板。這個腔室設計有高精度的墻壁,並配有高效的濾波器。這有助於確保無灰塵和顆粒的環境以及濺射過程的無氧環境。此外,也有不同的壁型,以進一步增加塗層的均勻性。CANON/ANELVA ILC 702工具非常適合薄膜沈積在電子、光電、MEMS、航空航天和醫療設備等應用。它包括了一系列的功能,使操作和精確的控制,使其適合應用要求的準確性和可重復性。
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