二手 CANON / ANELVA L-210H-WS #9055191 待售

CANON/ANELVA L-210H-WS濺射設備是一種將薄膜材料沈積到基板上的多功能沈積工具。濺射系統由兩個大功率磁控管源和一個工作階段組成。磁控管源產生被高壓電源加速的電子。加速的電子接著轟擊一種目標材料，通過電離粒子將材料轉移到基板上，產生薄膜塗覆的基板。CANON L-210H-WS濺射裝置裝有兩個RF磁控管濺射源，並有一個最大壓力為10-4 Pa的疏散室。該機溫度範圍為25°C至350°C，具有可調壓力、功率和電壓設置。它包括一個塵埃過濾工具，幫助保護資產免受汙染物，還包括一個集成的冷卻模型，以確保安全和高效的操作。ANELVA L-210H-WS濺射設備可用於廣泛的應用，包括但不限於薄膜氧化矽/氮化矽/碳化矽（SiOx/SiNx/SiCx）薄膜、銅氧化物（CuO）沈積、銅錫（CuSn）、氧化鈦（TiOxide （TiNXx/SiCx）薄膜和Cx。這種濺射系統還能沈積金屬和導體，如鋁（Al）、銅（Cu）、鎳（Ni），形成各種層。L-210H-WS濺射裝置是一種高科技和高性能的機器，設計直觀，易於使用，可靠。該工具集成了遠程操縱桿操作、高性能腔室疏散資產、可編程配方編程、故障報警功能、易於維護等最新技術。此外，該模型還提供了可重現結果的精確過程控制，確保了可靠和一致的薄膜沈積。總體而言，CANON/ANELVA L-210H-WS濺射設備是一種先進而強大的沈積工具，用於將薄膜沈積在基板上，從而實現卓越的薄膜質量、高分辨率和精確的工藝控制。因其高性能能力，適用於研發、計量、快速原型設計和納米技術應用。其直觀的用戶友好界面和先進的特點使其成為各類薄膜沈積應用的絕佳選擇。