二手 CANON / ANELVA SPC-530H #9111244 待售

CANON/ANELVA SPC-530H是一種設計用於薄膜沈積的高性能濺射設備。它配備了500 W、射頻（RF）濺射電源和低壓直流（DC）輝光放電電源。CANON SPC-530H系統通過基於實時微處理器的單元提供出色的過程控制,該單元可監視和控制濺射速率、輝光放電條件和周期間停留時間的設定點。濺射電源的工作頻率範圍很廣（50-4,000 kHz）,能夠處理直徑不超過8英寸的基板。ANELVA SPC-530H機設計用於快速的濺射沈積和快速的材料轉移和從濺射室。SPC-530H工具在單個資產中提供廣泛的濺射過程,包括離子束蝕刻、反應性離子蝕刻、表面活性劑沈積、蒸發和磁控管濺射。它的靈活性和可擴展性允許廣泛的基板和濺射參數。CANON/ANELVA SPC-530H模型包括一個可調腔室壓力控制設備，能夠精確控制工藝參數，如沈積速率和薄膜厚度。此外，CANON SPC-530H系統還支持自動清潔和自動漂移特性，這有助於更長的沈積時間和更快的沈積速率。ANELVA SPC-530H單元可以生產多種薄膜類型，從氧化膜到高溫半導體電介質。其廣泛的濺射過程允許微調沈積速率，以得到理想的結果。此外，SPC-530H機具有獨特的高溫基板加熱選項，能夠沈積具有優異性能的薄膜。此外，該工具還支持在線光學檢查，從而可以對生產的薄膜進行質量控制。CANON/ANELVA SPC-530H資產是為長期使用和可靠性而設計的。它的閉環處理確保了精確的測量和嚴格的過程控制。室內維護和清潔的自動化程序消除了手工調整的需要，降低了工藝成本。此外,用戶友好的軟件和圖形界面允許輕松高效地控制模型的功能。總體而言，CANON SPC-530H是一種用途廣泛且可靠的濺射設備，設計用於薄膜的高性能沈積。其廣泛的濺射工藝，並伴有自動清潔和自動漂移等先進特性，使得薄膜的快速和精確沈積具有極好的可重復性。此外，該系統還具有獨特的高溫基板加熱選項，便於沈積具有優異性能的高溫薄膜。該裝置支持高速沈積，適合生產具有精確、可重復效果的薄膜。此外,它的用戶友好界面能夠快速輕松地控制機器的功能。