二手 CANON / ANELVA SPF-313H #9279660 待售

CANON/ANELVA SPF-313H Sputtering Equipment是一種高度先進且用途廣泛的實驗室工具,能夠制造和沈積各種薄膜。它配備了多源離子束濺射源、封閉式工藝室、六基板轉盤和多等離子體蝕刻系統。該單元設計用於大中型薄膜沈積工藝。它還允許用戶通過設置蝕刻、濺射和反應性濺射的特定參數來自定義沈積過程。封閉的工藝室容納三個獨立的真空室。首先是要沈積的材料放置的濺射源室。第二個腔室裝有6個用於晶片往返濺射源的基板轉盤。第三室裝有多等離子體蝕刻機和外圍部件。濺射源由高功率離子束源組成。絕對控制的離子消耗確保濺射速率保持精確和可重復。多種單層或多層膜可以用離子束濺射源的高功率塗覆。這種威力對於鋁、矽和當代材料等薄膜的反應性濺射通常是必不可少的。基板轉盤的容量為六個基板，設計為均勻分配重量。低矩樞軸點可減少振動,同時提高穩定性和精度。此外，轉盤易於調節，可用於各種基板尺寸和形狀。ETCH工具裝有氦基等離子體腔。這是控制某些聚合物、復合材料甚至金屬蝕刻時的蝕刻速率的理想選擇。該過程非常精確,提供了令人難以置信的可重復性和可靠性。佳能SPF-313H濺射資產是大中型薄膜沈積工藝的絕佳選擇。它設計用於從金屬沈積到反應性濺射、蝕刻和電鍍等多種用途。它結合了高功率離子束源和精確的氦等離子體腔，提供了無與倫比的可重復性和對過程的控制。此外，它的大型六基板轉盤提供了穩定性和靈活性。簡而言之，ANELVA SPF-313H是任何需要可靠和易於使用的濺射模型的實驗室的理想選擇。