二手 CPA / KURDEX V2000 #9059168 待售

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製造商
CPA / KURDEX
模型
V2000
ID: 9059168
DC Magnetron In-line sputtering system Single sided sputtering: Cathodes can be moved manually Double sided sputtering is desired Target size: 3-1/2" x 18" Easy access to cathodes via hinged doors Cathodes: 4 DC and 1 RF Multiple CTI cryopumps for high vacuum Load lock chambers on both ends Loader handles: Up to 20"-28" H-Panels or pallets Variable speed pallet transport system.
CPA/KURDEX V2000是一種超高真空濺射設備,非常適合材料沈積應用。該系統設計用於將一系列介電、金屬和折射率層沈積到基板上,並經常用於生產光學濾光片、太陽能電池和其他特種設備。CPA V2000具有一類領先的腔室幾何形狀,由兩個大真空濺射鈴組成,能夠容納直徑達100毫米的基板。該裝置設有專用真空和濺射準備室,可調節質量流速模塊,全部裝在一個緊湊的足跡。腔室耐電荷顆粒堆積,減少回流,並配有獨特的可調磁體級,允許薄膜材料的精確沈積。原料裝入主室,用快釋電子束焊接密封牢固密封。該機包括三個可調陶瓷目標架,方便各種目標配置的調整。質量流量控制模塊允許精確調節沈積,在基板上形成均勻的層。KURDEX V2000還配備了自動快門工具,保護基板免受濺射過程中產生的碎片或顆粒的傷害,並確保基板表面不受汙染。環保操作確保在加工過程中無需清洗資產。V2000是一個靈活的模型,允許過程定制和支持多個配方。該設備還支持進程中成像和監測,具有精確的測量能力,並可選擇數字或動力光學成像系統。CPA/KURDEX V2000具有可靠可靠的操作功能,可確保精確、可重復的結果。系統操作維護簡單,人性化的界面使操作簡單直觀。由於其體積小巧、設計高效、操作可靠,CPA V2000非常適合濺射應用。
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