二手 CPA / KURDEX V2000 #9159037 待售

製造商
CPA / KURDEX
模型
V2000
ID: 9159037
Sputtering system Process chamber: Dimensions: 29.625” H x 9.5” W x 26.25” L Chambers capable of 600 mm x 600 mm (3) Process chambers with viewing windows Entry: (1) Chamber Deposition: (2) Chambers (1) Load lock valve Pumping port: CF-275 flange for RGA Pumping ports for chamber with frame base plate Standard modules With up to (4) cathode positions per module Cryopumped process chamber Cryopumped load locks (2) Sets shielding RGA Port DC and RF in any mix Sputter single side or double side Vacuum performance: Ultimate pressure: 2 x 10(-7) in 16 hrs 5 x 10(6) in 30 minutes Rate of rise: 1 x 10(-4) 6 minutes Utility requirements: Water: 4 GPM @ 65 PSI per Deposition / Heater position Power: 208 VAC 3Ø, 60 Hz, 5 wire, 80A Gas: Compressed air: 80 PSI min, 90 PSI max Vent gas (Nitrogen): 10 PSI min, 15 PSI max Process gas (Argon): 20 PSI min, 25 PSI max Doors with no cathodes Hivacs Cryos Throttle valves Load lock valve Track assembly.
CPA/KURDEX V2000濺射設備是一種先進的濺射工具,用於將薄膜沈積在各種基板上。這個功能強大的工具由三相交流電源供電。它利用了一個專有的高真空、多焦濺射真空室,工作壓力在1E-5 Torr下,允許最多三個獨立的源同時濺射不同的薄膜。CPA V2000提供了一個蒸發源和一個單獨的濺射源,兩者都可以從同一腔室將薄膜沈積到基板上而不會轉移基板。蒸發源使用陶瓷絲沈積厚度、材料組成和折射率通常在1,200至5,200 nm之間的單層或多層薄膜。濺射源由四個環形磁體陣列和一個圓柱形陽極組成,該陽極能夠為四個濺射源供電。這個濺射源具有0-100%的線性功率控制,允許對濺射過程進行更大的控制。此外,KURDEX V2000提供了廣泛的濺射槍/材料組合,允許生產具有卓越性能的材料。濺射系統還配備了鎖載技術,通過在不同腔室之間切換,有助於維持高真空環境。這有助於將腔室的壓力調節到盡可能最一致的水平,並有助於防止沈積膜的汙染。V2000還配備了室內溫度控制裝置,可以在運行敏感膜沈積過程時進行精確的溫度控制。CPA/KURDEX V2000是一種功能強大、精密的濺射機,能夠生產各種具有優異性能和精確度的薄膜。其精密的設計、強大的元件和創新的技術使CPA V2000生產各種應用的高品質薄膜的理想選擇。
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