二手 CPA S-Gun #293811816 待售
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ID: 293811816
晶圓大小: 3"
Sputter-Gun System (3 S-Guns), 3"
Used for TiW, W5Si3, Au, Argon, Nitrogen
(3) Direct Current (DC) magnetrons
Target holders.
CPA S-Gun，或稱陰極電弧PVD（物理氣相沈積）濺射設備，是一種用於先進薄膜沈積工藝的尖端技術。這個精密的系統結合了陰極電弧蒸發和濺射技術，在各種基板上制造出高質量的薄膜。S-Gun裝置的設計是為了滿足需要精確控制薄膜性能、均勻性和附著力的工業需求。CPA S-Gun機的核心是陰極電弧蒸發過程，它涉及通過應用高壓電脈沖使目標材料汽化。電脈沖產生等離子弧，轟擊目標材料，導致原子噴射並沈積在基板上，形成薄膜。這一工藝允許沈積多種材料，包括金屬、合金和化合物，具有高純度和優異的粘附性能。此外，S-Gun工具還具有濺射能力，包括用高能離子轟擊目標材料，使原子脫落並沈積在基板上。該工藝可與陰極電弧蒸發結合使用，以增強膜的均勻性、密度和應力控制。通過將這兩種技術相結合，CPA S-Gun資產提供了更強的靈活性，允許沈積復雜的多層塗層，並對薄膜厚度和組成進行精確控制。S-Gun模型的關鍵特征之一是其先進的等離子體控制技術，確保了穩定和可重現的薄膜沈積過程。該設備配備了先進的等離子體診斷和監控工具，使操作員能夠實時優化工藝參數，從而提高膠片質量和性能。此外,系統的智能軟件算法可實現自動化過程控制,最大限度地減少人為錯誤並提高生產率。CPA S-Gun單元專為多功能性和可擴展性而設計，使其適合航空航天、汽車、電子、光學等行業的廣泛應用。它的模塊化設計允許方便地整合額外的工藝模塊，如基板加熱、離子束輔助和原位監控，以滿足特定的應用要求。無論是沈積保護性塗層、耐磨膜還是光學塗層，S-Gun機器都提供無與倫比的控制和精度。總之，CPA S-Gun是一種結合陰極電弧蒸發和濺射技術，提供高性能薄膜沈積能力的最先進的濺射工具。S-Gun資產憑借其先進的等離子體控制、多用途的設計、可擴展性，是尋求獲得優越的薄膜質量、均勻性、附著力的行業不可或缺的工具。通過利用陰極電弧PVD技術的力量，CPA S-Gun模型使得高品質薄膜的生產具有更強的性能和性能特點。
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