二手 CVC 2800 #293750058 待售
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CVC 2800是一種濺射設備，設計用於將薄膜濺射沈積在基板上，用於半導體應用。濺射系統融合了業內一些最先進的技術，以保證盡可能高的性能。具體來說，將2800與其他系統區分開的主要特點是使用了冷陰極技術。通過使用冷陰極，CVC 2800產生較高的沈積速率和優越的膜質量比其他系統在同一類。2800采用氣體混合室，可精確控制和調節工藝氣體，這對於實現一致和可靠的薄膜性能至關重要。它還包括一個真空室，使沈積室中的真空達到很高的水平。這對於減少氣體汙染和確保從基板表面清除汙染物非常重要。CVC 2800還包括可精確控制濺射過程的RF電源。這確保了統一和可重復的結果。2800還采用了兩級泵送裝置，這是避免機器內部冷凝和確保基板不受汙染的關鍵。這種兩級抽油機具有將氣體抽出資產的粗加工泵和在真空室和沈積室中提供超高真空的高真空泵。該模型具有直觀的控制面板,為用戶提供了控制整個濺射過程的各種選項。這保證了用戶可以輕松調整功率、壓力、氣流等參數，從而獲得優越的效果。此外,CVC 2800還配備了安全功能,例如緊急停止開關,以確保在發生緊急情況時可以關閉設備。總的來說,2800是一種很好的薄膜濺射沈積系統.它具有較高的沈積速率和較高的薄膜質量，其兩級泵送裝置確保基板不受汙染。此外，直觀的控制面板和安全特性使過程參數的調整更加容易，確保了安全的工作環境。最重要的是，使用冷陰極技術可以實現可重現和可靠的結果。
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