二手 CVC 2800 #9054640 待售
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ID: 9054640
Cluster tool
Loadlock chamber: ion mill ~50A/min
Heater chamber: HAS, ~250ºC
Chamber 1, (3) targets:
Titanium
Ti-W: 10% wt Titanium to 90%wt Tungsten
Copper
RF Power supply: HAS 1
Chamber 2, (3) Targets:
Copper doped Aluminum, 5%wt
Tantalum
Tantalum
RF power supply: HAS 1
Process gas: (3) mass flow controllers: argon, nitrogen, oxygen
Includes:
(3) CTI 8 Cryo pumps and compressors
Mechanical vacuum pump: Alcatel M2033
Substrate handling options:
6" round substrate pallet capable of holding (8) substrates
8" round substrate pallet capable of holding (6) substrates
Customized 8" to 6" Adaptable Pallet for Edge Protection.
CVC 2800濺射設備是Cambridge Vacuum Coatings的一種最先進的、高性能的直列式沈積系統。該裝置設計用於將各種材料沈積到許多基質上。它采用模塊化設計方法,可根據流程集成和自動化的需要輕松定制。2800刀具的中央操縱機由兩個濺射室和一個塗層室組成。每個濺射室都配有四個磁控管源和四個基板，以最大限度地提高沈積速率和吞吐量。塗層室裝有熱氧化室，以改善基板溫度控制，優化薄膜生長。等離子體通過陰極源中的配對燈絲資產在濺射室中產生。這產生一個電子槍，將電子加速到陽極源，產生輝光放電。在塗層室中，高密度等離子體是通過遙控電壓供應產生的，該電壓供應在基質旁邊留下一層熱的電離分子。濺射材料然後凝結在基板上。CVC 2800濺射型號配備了幾個特點，使其適合用於各種塗層應用。其中包括在手動腔室對腔室控制之上的易於使用的自動化層、基板和陰極源參數的自動控制、通用的測量套件以及可沈積的多種材料。此外，2800臺設備能夠在高真空和快速抽水速度下運行。所有這些特性使CVC 2800濺射系統成為實現高精度、重復性、高通量薄膜沈積的理想選擇。這使得該單元成為醫療設備、傳感器、顯示器、光電子等多種多樣工業沈積的首選。
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