二手 CVC 2800 #9185093 待售

CVC 2800是一種高度精密的濺射設備，用於將薄膜沈積在幾乎任何材料的基板上，從半導體到光學材料。這主要用於納米加工以及研發。系統的主要成分是濺射源，它使用氣體作為電導體，用電子轟擊目標材料。這種轟擊導致目標物質汽化，然後汽化的顆粒在受控的大氣中沈積到基板上。2800的來源由上半身和下半身兩個獨立的主體組成。上半身包含一個目標，下半身包含氣體供應和電源調節器。根據所需的沈積類型選擇目標材料。這通常是鎂、鈦、鉻、鋁等金屬的組合。它還可以摻入銅、鋅、金等其他金屬。根據基材的不同，可以使用不同的靶材。例如，對於像半導體這樣的導電基板，鈦可以用作目標材料。CVC 2800與幾種基板兼容，包括矽、玻璃和金屬。該單元非常適合在單個基板上創建厚度不同的多層薄膜。這是由於機器的可變壓力能力，從而可以更好地控制薄膜的沈積速率。該工具具有多種濺射技術，包括高速率和低速率沈積。該資產還具有內置壓力表和可調節氣體流量控制功能，以幫助保持濺射速率。此外,模型還可以選擇在半連續模式或多步模式下操作。為了達到最佳水平,必須定期清潔和維護2800。這包括清理目標面，隨著時間的推移，目標面會被沈積殘留物堵塞。設備還需要定期校準，以確保沈積速率正確。總體而言，CVC 2800是一個強大而可靠的濺射系統，可以幫助在幾乎任何基板上制造高質量的薄膜。該裝置的可調參數可針對每一個單獨的應用進行微調，其與各種基材的兼容性使得它成為任何研發實驗室或納米加工設施的絕佳選擇。