二手 CVC 312415-27-T #9124390 待售

CVC 312415-27-T濺射設備是一種用於薄膜在基材上沈積的先進技術。它是一個閉合幾何二極管濺射系統，由兩個磁控管陰極、兩個平行板目標和四個泵浦端口構成，實現單陰極和雙極沈積。它配備了種類繁多的標準標準濺射靶子，可用於金屬、合金、復合材料薄膜的沈積。312415-27-T由兩個主腔室組成，一個電磁等離子體（EMP）腔室和一個主真空腔。EMP腔室容納磁控管陰極，在真空環境中產生等離子體，並加速濺射粒子向目標材料。主室包含真空泵、目標和基板加熱器。CVC 312415-27-T的一個主要特點是單陰極沈積（SCD）方法，它可以使薄層材料沈積在基材上而無需陰極旋轉。與傳統的雙極沈積相比，薄膜具有更好的均勻性和穩定性。該單元還配備了多位置雙極濺射控制器，用於多種材料的雙極沈積，以及大型復雜薄膜的多目標濺射單元。312415-27-T機還配備了多種端效應器和檢測器，如單軸濺射控制器、光柵掃描電極、離子和熱輔助等離子體源、多區溫度控制器、底壓控制器。它還配備了一套質量控制的診斷工具，如四點探針單元、測量磁場的磁力計單元（MGU）和監測等離子體場的法拉第籠。CVC 312415-27-T濺射工具是生產高價值薄膜材料的有力可靠工具。它擁有一整套先進的工具、堅固的構造和直觀的用戶界面,使其成為涵蓋航空航天、汽車和半導體制造等多個行業的廣泛應用的理想選擇。