二手 CVC 601 LL #135391 待售

製造商
CVC
模型
601 LL
ID: 135391
優質的: 1980
Load lock with RF Etch For conversion of CVC 601 sputtering system to load lock Specifications: Chamber top plate assembly and hoist Heavy duty hoist Load lock chamber with cassette Roughing manifold RF Etch assembly with matchbox Rotostrate titanium table with pallets 1980 vintage.
CVC 601 LL是一種真空濺射設備,為各種薄膜沈積應用而建造。主要用於沈積金屬、電介質和氮化物,以及氧化物和其他化合物。它具有從研發到中小型生產等復雜薄膜應用所必需的所有特性。601 LL采用高端金剛石類碳(DLC)塗層系統,具有先進的多源濺射和快速熱退火。它具有分布式動力架構,具有先進的數字濺射電源,具有可調節的轉向能力,可提供連續的等離子體濃度,同時允許精確控制材料成分。利用高效的低功率電弧抑制電路檢測弧狀條件並立即抑制。該單元的主室采用鋁合金制成,即使在極端條件下也能方便操作。設有高真空室,可進行高質量的薄膜沈積和快速的泵降時間。在門上放置了一個集成編碼器,用於精確控制氙氣流動和關閉腔室。它還裝有OLED顯示屏,用於監控腔室狀況並進行實時調整。CVC 601 LL具有獨特的功能,例如先進的電弧檢測機、峰值電流高達20A的可調功率範圍,以及用於均勻分布塗層的自動基板支架位置控制。該工具為各種材料提供了廣泛的加工窗口,從鋁到金和其他異國情調的合金。601 LL具有橫向氣體輸送資產,允許沈積高反應性物質,如氧化物和氮化物。它提供了一個大面積覆蓋和均勻性控制模型,以生產高質量的薄膜與最小的浪費。此外,CVC 601 LL是一個可靠的設備,其後盾是一個創新的光學聲學系統,能夠以視覺和聽覺的方式提供準確的過程控制條件,以及板載診斷和硬件數據記錄器。它還具有增強的濺射清洗單元和無氫電阻塗層,性能卓越。
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