二手 CVC 601 #153595 待售

CVC 601是一種徹底改變先進材料合成的濺射設備。它是一個先進的物理平臺，專為提供微米和亞微米薄膜沈積而設計，具有非凡的均勻性和最佳的層厚。該系統配有直流（DC）電源和真空處理室，以及其他組件。601設計為利用磁控管陰極技術進行濺射，利用高度精確的可調磁場創造穩定、高密度的等離子體源。這樣可以精確控制薄膜的沈積速率和均勻均勻性。此外，CVC 601還結合了反射等離子體濺射過程，精確調節濺射過程的電離和沈積速率。這消除了手動控制的需要，並進一步增強薄膜沈積的均勻性。601濺射單元的其他關鍵部件包括用於精確壓力控制的高性能泵送單元、先進的真空工藝室、無窗粘結基板。所有這些都包括它的真空室.該工具的壓力控制機設有氣閘，以有效處理基板的大容量載荷。為保證濺射過程的均勻電離，采用惰性氣體噴射口進行精確的氣體壓力控制。CVC 601先進的無窗粘結基板配置有助於確保薄膜沈積的一致性。它還有助於降低由於嚴酷的熱循環而導致基板破損的風險。此外，它允許根據所需的應用選擇使用不同的材料，如：玻璃、不銹鋼或介電基板。601能夠將厚度為250納米的薄膜沈積到基板上。此外,資產高度精確的過程控制允許針對各種應用控制和優化厚度,而無需手動調整。綜上所述，設計了CVC 601濺射模型，以生產在精確厚度下均勻的高質量薄膜，提高了工藝效率和精度。其優越的技術和組件保證了可重現和可靠的沈積與最小的努力和停機時間。