二手 CVC 601 #78715 待售

CVC 601是一種反應性濺射設備，用於將材料薄膜沈積到目標表面上。它使用陰極弧來產生致密的等離子體，而等離子體又被用來在要塗覆的基板表面產生離子轟擊。濺射過程中產生的離子穿透基材表面，使目標材料的原子附著在基材上。其結果是在目標基板上沈積材料的薄膜。601利用雙靶標在相對較大的區域內生成廣泛範圍的離子。它具有比單一目標系統產生更大沈積速率的能力，因為它采用正極和負極目標。目標由基體/約束材料和分形排列的塗層材料組成。這種獨特的安排可以有效地調節熱量和均勻地沈積速率。CVC 601還具有渦流電源（ECPS）系統。這個單元提供對濺射環境的原位控制，允許使用者微調提供目標材料的離子粒子。該機還可用於維持給定的目標溫度，確保較高的沈積速率和沈積均勻性。601的另一個特點是其堅固的基板架構。基板表面的設計是為了確保沈積物料與基板具有更好的凝聚力，並提供優異的散熱和沈積均勻性。此外，基材的設計是為了抵抗物理損壞和汙染。CVC 601是一款高效可靠的工具。它能夠產生非常均勻的沈積物，並能精確控制薄膜厚度和沈積均勻性。這種資產是將材料沈積在各種基質上的理想選擇。它越來越多地被用於金屬、半導體、氧化物和各種化合物的精密塗層。此外，它在控制沈積速率和薄膜厚度方面的靈活性使其成為有價值的研發工具。