二手 CVC 601 #83143 待售

CVC 601是一種高性能磁控管濺射設備，用於沈積金屬和金屬合金薄膜。該系統適用於反應式或非反應式濺射過程。它由兩個目標組成，能夠同時獨立生產兩種不同的材料。該設備具有PVD和PA6電源,能夠沈積多組分薄膜結構以及單組分薄膜。601具有可移動基板級，可精確設置為所需的濺射角度。這種角度可以調整為最佳膜致密和成分控制.該機器有一系列目標載荷，能夠生產不同厚度的薄膜。CVC 601配備了高功率、可調頻率的RF/DC發電機和2 x 30厘米真空室。射頻發電機的功率範圍高達700瓦，總合功率為1400瓦。發電機還有場強度測量裝置和功率控制工具，允許精確控制濺射速率。資產具有多種控制,包括射頻偏差、功率、壓力和溫度。這些功能使用戶能夠精確監控和調制沈積過程。溫度範圍可在150-1000攝氏度之間進行調節,並提供溫度傾斜選項。溫度範圍可以由CVC計算機模型的操作員快速設置和調整。601還有一個離子源，可以用於離子輔助濺射，導致薄膜質量提高。另外還有一個可選的氣體噴射設備，可用於反應性濺射過程，以​​Argon或Oxygen作為反應性氣體。CVC 601還具有串聯粒子分析系統，可以精確監測薄膜成分。粒子分析單元能夠檢測0.3至9.9微米大小範圍內的粒子。在安全方面，601配備了防止意外誤操作的聯鎖安全系統。該機有CEC認可的安全開關，以及緊急停止按鈕。還有一個防濺射裝置，防止濺射時產生的粒子進入腔室。CVC 601是一種強大可靠的工具，可用於高效薄膜沈積。操作簡單，能準確控制沈積過程，導致薄膜質量均勻。601具有柔韌性、安全性和易用性,是薄膜沈積的理想工具。