二手 CVC 601 #9003215 待售

CVC 601是一種先進的濺射設備，設計用於將金屬、合金、半導體和絕緣體的薄膜沈積在基板上，如薄玻璃或塑料。它是一種工業級濺射系統，設計時考慮到最大的生產效率。601由一個最多可容納八個目標和兩個基板支架的腔室組成。目標可以很容易地改變以達到正離子或負離子靜態濺射。高抽水速度提供了室內的高真空環境，使濺射沈積發生。CVC 601利用磁控管型射頻或直流電源,具體取決於目標材料。射頻電源以175 kHz的頻率運行，而直流電源使用三相電源。采用了一種艱苦的點火方法來調節601的薄膜沈積性能。內置的基於內容的控制單元優化了各種沈積條件下的工藝參數。可使用水冷冷卻劑或風冷冷卻劑控制腔室的溫度。此外,還可以使用內置傳感器對腔室進行溫度、壓力和氣流監測。CVC 601提供手動和自動控制操作來設置沈積參數。利用這種自動化和手動控制的組合,可以為滿足特定客戶要求的薄膜沈積量身定制601。進程參數可以存儲在可編程內存中，並在需要時進行訪問，除非手動更改。CVC 601設計用於半導體制造廠或用於研究和實驗室研究。憑借先進的控制機器和較高的泵送速度，601可以生產出一致、高質量的薄膜，用於各種應用。