二手 CVC 601 #9060536 待售

CVC 601是一種最先進的直流電（DC）磁控管濺射設備。該系統是為微電子和光電器件制造的基礎和應用研究而設計的.它提供了對各種操作參數的精確控制，以在各種濺射技術中生產高質量的薄膜。601具有模塊化設計,允許各種配置選項來滿足研究和工業需求。它是一種真正的直流濺射裝置，用於氧化、氮化等薄膜應用。6"目標機利用先進的失衡磁控管濺射源，可以進行優化，提供長壽命、高速率沈積和可重現的結果。高功率射頻調諧裝置的設計保證了可靠和可重復的過程控制。CVC 601包括電源部分設備、加熱器、快門工具和帶有渦輪分子泵的真空資產。該模型配置用於控制腔室壓力、基壓和操作壓力，使基板的制備達到所需的最佳壓力值。高精度Pt1000電阻溫度計的先進PID控制設備實現了操作溫度的精確控制。601系統的軟件包允許對目標位置、基板位置和RF電源設置進行精確的微米級控制。機載機械臂可自動放置和檢索基板,以便進行批處理。其他功能還包括自動化的過程控制單元、光學反饋單元、過程監控模塊以及用於確保操作員安全的安全聯鎖機。此外，CVC 601還可定制一種可選的快速斷開氣體分配工具，用於用不同氣體排出和回填腔室。601是材料研究、薄膜沈積、表面表征的理想工具。適用於太陽能電池、平板顯示器、CMOS成像設備、硬質塗層、MEMS設備等多種應用。對流程參數的精確控制、廣泛的高級功能和通用軟件相結合，提供了卓越的用戶體驗。