二手 CVC 601 #9123996 待售

CVC 601是一種用於薄膜沈積的濺射設備。它是一種單室雙磁控管系統，旨在提高薄膜沈積工藝的效率和靈活性。該機組采用內置嵌入式電源的單個高真空室和用於雙磁控管濺射的射頻發生器。它有一個矩形的敞開式腔室、一個用於濺射材料的集成通風口、腔室頂部和底部的氣體進氣口以及基板的垂直設置臺。為了沈積薄膜，樣品被裝入室內，並建立真空。然後將氙氣引入腔室，由兩臺低頻（13.56 MHz）射頻發電機將磁控管濺射。磁控管的功率和頻率都可以調節以獲得最佳塗層。基板放置在與磁控管目標設定在所需距離的平臺上。將射頻功率提高到所需值,並在需要沈積塗層時將濺射材料收集到基板上。601濺射機效率高，可用於多種薄膜沈積工藝。它具有較高的沈積速率和較低的底物充電水平，非常適合在各種底物上沈積高質量的薄膜。大的腔室尺寸允許多個基板被濺射，或者更大的基板可以用於更大的塗層。該工具還支持高沈積速率，具有大範圍的磁控管功率輸出以及在高溫和低溫下沈積的能力。此外，資產還具有共沈積和反應性濺射等先進工藝。總體而言，CVC 601模型是各種薄膜沈積應用的強大而有效的工具。它是一種高效靈活的工具，可以將優質塗層沈積在多種材料上。