二手 CVC 611 #9077095 待售
網址複製成功!
ID: 9077095
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Sputtering system, 8"
C2C (4) 8" RF PVD stations
CTI CT-8F cryo pump and compressor
Brooks robot VT-5
Brooks Indexer
Techware II controller
3" to 6" wafer handling
1996 vintage.
CVC 611是一種真空濺射設備,用於在大面積上沈積和濺射高質量和均勻的薄膜。該系統由真空室、濺射槍、壓力控制器和控制單元組成。真空室由丙烯酸體和不銹鋼底座組成,並配有與腔室內部視覺交互的觀景口。它能夠為金、鋁、鉻、鈦等材料創造與發動機運行相對應的合適背景壓力。腔室內部容積較大,能夠快速疏散和快速濺射沈積。用於沈積薄膜的濺射槍具有可調頻率和功率水平。利用水冷線性電離光源,使薄膜層具有高速率、均勻的沈積特性。可調整源,以最佳的沈積精度實現長載荷周期。該槍處理幾種基材,包括玻璃、石英或矽片。壓力控制器負責在沈積過程中提供必要的環境。它通過保持真空和溫度來創造最佳的工作條件。這使得濺射速率恒定,從而保持膜的質量和均勻性。611使用的控制機為Open-PACE。它是一個提供眾多控制和操作選項的圖形用戶界面。該工具有助於確保精確和一致的操作,從而使用戶能夠更好地控制沈積速率、薄膜厚度、紋理和均勻性。總體而言,CVC 611是一種先進的濺射資產,能夠在大面積上以更高的精度和均勻性沈積薄膜。通過壓力控制器提供必要的環境,並通過用戶界面提供必要的控制,611為任何需要質量膜層的項目提供了最佳沈積工具。
還沒有評論