二手 CVC CVC 2 #9124375 待售

CVC CVC2是一種用於將材料薄膜沈積到基板上的濺射設備。它是濺射系統的三源聚類，意味著它有三個獨立的沈積源。它具有廣泛的功能,可用於許多不同的應用程序。該單元由一個主體和最多三個額外的沈積源組成。每個源通過一個柔性臂連接到主體。這使得在將材料沈積到基板上時具有靈活性。主體裝有一個控制器單元，可以精確控制沈積參數。控制器是可編程的，允許用戶根據自己的需要定制沈積。在將材料沈積到基板上之前，必須循環使用真空室，以確保適當的沈積環境。腔室可以通過抽水和加熱相結合的方式循環，這取決於用戶的真空要求。三種沈積源分別是磁控管、電弧和電子束。磁控管源利用螺線管磁體和濺射目標使氣體分子電離，並將材料薄膜沈積到基板上。電弧源利用感應線圈和電子射線照相源對材料進行電離和濺射。電子束源利用電子槍濺射材料，在基板上形成薄膜。除了源外，CVC 2機還配備了其他幾個部件，以保證平穩運行。這些部件包括一個負載鎖、一個卡盤、一個樣品支架、一個真空閥、一個用於監測過程的觀察端口、一個疏散泵、一個氣體噴射器和一個冷水器。CVC CVC2工具具有很高的適應性，可用於各種基於真空的應用。例如，它可以用於電接觸應用，如薄膜電阻。此外，該資產還可用於將材料沈積到矽晶片上，用於制造MEMS和IC，以及用於光學用硫化鋅和氮化矽的薄膜濺射。總之，CVC2是一種可靠的三源簇濺射模型，能夠將多種材料沈積到基質上。它具有很高的適應性，可用於各種應用。它具有多種沈積源和各種其他成分，是最有效、最可靠的材料濺射系統之一。