二手 CVC ICS 660 #135722 待售

製造商
CVC
模型
ICS 660
ID: 135722
Ion cleaning accessory for substrate cleaning Designed for use with CVC 2800 / 611 / 601 sputtering systems Beam diameter: 7.5" Neutralized ion beam - plasma divergence Includes: Housing with adapter flange for CVC 2800 Grid assembly with mounting hardware Feed throughs for neutralizer and grid power Neutralizer hardware ID 3500 power supply High-voltage cover with water and gas hardware Cables.
CVC ICS 660是一種直流(DC)磁控管濺射設備,用於將各種塗層的薄膜沈積在基板上。這種濺射系統結合了高性能的濺射槍,以及獨特的槍架組合,被設計成在高功率應用中提供卓越的基板覆蓋和無與倫比的壽命。該單元由可調節電壓和電流設置的直流電源供電,每支槍可單獨調節。ICS 660具有多種磁體,包括矩形和圓形磁體,可以對濺射過程進行微調。該機基於旋轉磁控管濺射(RMS)過程,其中在基板和旋轉源磁鐵之間的旋轉平臺上安裝了大功率磁控管槍。這種濺射工具使材料均勻分布在基板上,與傳統的平面濺射系統相比有幾個優點。最重要的是,資產的旋轉方面允許薄層在整個基板表面上均勻沈積。這種均勻的沈積過程消除了在靠近基板邊緣的盲點中的沈積,從而可以產生不均勻的層厚度。CVC ICS 660還包括多種高級功能。旋轉炮架能夠精確調整濺射角度,以確保最佳覆蓋基板。此外,可調節壓力表允許用戶根據個別應用要求重新調整壓力。該型號還配備了智能傳感器,可以檢測濺射槍何時即將失去目標材料,並自動調整工藝參數,以保持輕松一致的沈積速率。ICS 660濺射設備為各種工業應用生產高質量的薄膜,從微電子到航空航天應用。利用直流電源和RMS工藝,CVC ICS 660可在幾乎任何尺寸或形狀的基板上均勻沈積金屬、金屬氧化物和其他薄膜材料。其先進的功能確保了高度的準確性和可靠性,同時為用戶提供了微調沈積過程以滿足其特定要求的能力。
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