二手 CVC PSE43 #70877 待售

CVC PSE43是一種用於將材料低壓真空沈積到基板上的濺射設備。它專為薄膜沈積和半導體塗層等應用而設計，註重效率、速度和易用性。PSE43是一個三站直接濺射過程系統，它提供了更大的控制和優化過程。該單元有一個大的等離子體大氣室，從該室可以將多種陰極材料沈積到基板上。基板放在環形樣品架上，插入沈積室中，樣品架在腔內旋轉，以確保沈積物料均勻塗層均勻分布。機器配備了數字反饋工具，確保在濺射過程進行過程中資產保持穩定狀態。該模型提供了對電流、壓力、等離子體和溫度設置的微調，以提供最佳性能。設備中使用的氣源包括的Argon、Oxygen、Nitrogen和Hydrogen，具有廣泛的兼容合金-目標材料選擇。CVC PSE43設計具有堅固而可靠的結構，能夠應對沈積過程中呈現的各種環境條件。如果操作參數超出正常範圍，系統將設計各種安全措施，例如警報。PSE43易於使用,並提供了一系列有用的功能和報告。它采用了方便用戶的圖形界面，便於在沈積過程中監測工藝參數。此外，界面提供了一系列有用的報告，如周期摘要和趨勢圖，以及對過程的實時分析。總體而言，CVC PSE43是一種高效、可靠、用戶友好的濺射裝置，適用於各種薄膜沈積和半導體應用。該機器提供可靠、堅固的結構和一系列功能,使其成為那些需要經濟高效且可靠的工具的人的理想選擇。