二手 DENTON VACUUM DESK II #9180250 待售

DENTON VACUUM DESK II是一種濺射設備，設計用於沈積抗高能離子、蝕刻劑和電流的薄膜。該系統采用目標直徑為70mm的高性能濺射炮，在一系列基板上提供均勻、快速的塗層。此外,該單元還具有創新的一代功能,例如用於端點檢測控制的現場測量。Vacuum DESK II采用了一種精密的大功率直流濺射槍，具有初級磁性屏蔽，能夠在低工作壓力下沈積。這臺機器采用了可編程電源,實現了可重現的塗層工藝.此外，該槍還具有熱控冷卻工具，保持沈積均勻和快速。Vacuum DENTON VACUUM DESK II還包括噴槍上的離子束場以及遠程等離子體活化，從而提高離子濺射速率，允許以更高的沈積速率均勻沈積。Vacuum DESK II的基板支架是一種兩區隔熱資產，具有先進的熱保護模型，允許基板加熱到300 °C。該設備還具有1至10毫巴的可變壓力範圍。它設計有一個獨特的中央真空端口，用於精確的負載鎖疏散和一個高溫屏蔽，以防止被濺射槍汙染和防止薄膜變質。Vacuum DENTON VACUUM DESK II包括一個基於PLC的MFC（多功能控制器）和一個允許簡化操作的圖形用戶界面。系統還有一個自動診斷單元，用於監視、控制和註冊機器的狀態。此外，Vacuum DESK II具有超過15種實時自動化算法來優化沈積過程。Vacuum DENTON VACUUM DESK II除了具有先進的功能外,還采用露天淋浴設計,便於檢修部件和濺射槍。此工具還具有高速自動門資產,可減少與樣品交換相關的停機時間。此外，Vacuum DESK II配備了安全互鎖模型，旨在保護用戶。總體而言，DENTON VACUUM DESK II是一種先進的濺射設備，適用於廣泛的工業規模應用。憑借其集成的濺射槍和端點測量系統，該單元可以在廣泛的基板上提供高效、均勻的沈積。此外，該機的高科技特性，如基於PLC的圖形用戶界面MFC，為可靠準確的沈積提供了更多的信心。