二手 DENTON VACUUM DESK II #9199103 待售

DENTON VACUUM DESK II（DV2）是一種用於實驗室或工業環境的濺射設備。它設計用於在真空環境中將薄膜材料快速沈積到基板上。該系統是一種雙磁控管裝置，可以在單個過程中將多種材料沈積到單個基板上。該DV2能夠在一定溫度範圍內提供極其均勻的薄膜沈積速率，並具有可重復的結果。該單元由110伏電源供電，使用變頻驅動器調制從電源到磁控管的功率輸出。這可以精確控制沈積膜的沈積速率和由此產生的厚度。該機器能夠提供高達760 torr的真空壓力，這是許多物理氣相沈積過程所必需的。該DV2包括兩個單獨或組合存放材料的沈積來源。這兩個源可以用2.5米的可調距離隔開，並可以輸送高達25納米/分鐘的沈積速率。該DV2對平面和圓柱形基板都有可變基板支撐。基板表面的溫度由溫度控制模塊控制，可以從低至-60°C調整到高達500 °C。DV2在工具的下部包括一個完全可進入的爐膛。該腔室達到高達1000 °C的溫度，用於將真空腔室加熱到更高的溫度進行退火過程。資產的上部包括一個疏散室，可通過門口進入。這扇門允許安裝離子源，可以用來將金屬、氧化物和其他材料濺射到基板上。在安全性方面，DV2型號包括一個保護門，以減少暴露於腔室極端溫度的風險。此外，離子源還配備了輻射屏蔽功能，以防止意外暴露於電離輻射。總體而言,DESK II是為實驗室或工業環境設計的強大的濺射設備。它能夠以極均勻的沈積速率將多種材料沈積到單個基板上。該系統配備了確保安全使用和可靠結果的功能。