二手 DENTON VACUUM DESK II #9224511 待售

DENTON VACUUM DESK II（VD2）是一種自動真空室濺射沈積設備，設計用於復雜的薄膜沈積在各種基板上。該系統是實現應用特定塗層工藝的重要工具，是精密薄膜沈積工作的理想之選，具有無與倫比的精度和可重復性。該VD2由三個主要模塊構成：控制站、源室和工藝室。這些模塊中的每一個都考慮到了用戶的安全性和易用性。控制站允許會話設置、圖形作業映射以及監視正在進行的沈積的功能。這個工作站利用了一個易於操作的觸摸屏界面，允許用戶以最少的訓練操作單元。源室包含兩個通過真空進料通路連接的圓柱形腔室；一個腔室裝有惰性氣體源，如的，而另一個腔室則用於基板加熱。一個可旋轉的基板支架用於通過真空進氣室運輸單個樣品。該工藝室由一個圓柱形的腔室組成，其中包含兩個獨立控制的靜電炮源、兩個磁鐵和一個單一的射頻濺射源。這些組件的設計最大程度地提高薄層的均勻性組成薄膜沈積在基板上。該工藝室還包括一個冷卻的基板支架以維持工藝溫度，以及一個用於實時監測機器壓力的石英晶體壓力表，允許用戶為工具的正確操作進行必要的調整。該VD2使用戶能夠生成功能小至0.1 μ m的高質量薄膜。這種多功能性使得它適用於一系列的應用，從設備制造和納米級模式到醫學診斷和計量。該資產還配備了多種源氣體，使其適合一系列材料，如金屬、半導體、聚合物、氧化物和氮化物。該VD2還提供了高度可重復的沈積工藝的優勢，可在大型基材和應用中保持工藝質量和可重復性。這確保了可靠、一致的最終產品質量,對於精確的薄膜沈積任務至關重要。該VD2是一個先進的，用戶友好的濺射模型，可以很容易地集成到任何原型或研究實驗室。憑借其先進的設計和廣泛的選擇，這種真空沈積設備在薄膜沈積技術上提供了卓越的精度和可重復性。