二手 DENTON VACUUM Discovery. #293797109 待售

ID: 293797109
晶圓大小: 6"-8"
優質的: 2007
Deposition system, 6"-8" Vacuum load lock Robot loading assembly VEECO Ion source, 5 cm Gas controller Cables High steel chamber: 2" x 2" x 3" (2) VAT Gate valves (2) RF Tuners (2) ANGSTROM SCIENCES RF Cathodes with power supplies / controllers (2) ADVANCED ENERGY / DRESSLER Cesar RF Power generators CTI CRYOGENICS Cryo-Torr 8 Cryogenic pump with monitor CTI CRYOGENICS 8200 Compressor KYKY Turbo pump TRP-90 Vacuum pump Pressure monitor 1200H Controller Isolation valve Power supply PC 2007 vintage.
DENTON VACUUM Reliant 2是一種先進的濺射設備,設計用於半導體、光學和研究應用中的薄膜沈積過程。這一尖端系統提供卓越的性能、靈活性和可靠性,以生產高品質的薄膜具有卓越的均勻性和精確度。Reliant 2配備了最先進的磁控管濺射技術,可以將薄膜高效、精確地沈積到各種基材上。該單元采用雙磁控管結構,可同時濺射多種材料,以形成多層沈積或合金。雙磁控管設計增強了機器的多功能性,使用戶能夠創造出具有獨特特性的復雜薄膜結構。DENTON VACUUM RELIANT 2中的濺射過程是在高真空環境中進行的,確保了清潔無汙染的沈積過程。該工具配備了堅固的真空泵資產,能夠實現並保持超高真空水平,對於實現高品質的薄膜塗層具有出色的附著力和均勻性至關重要。真空模型還通過最小化氣相相互作用和確保穩定的工藝條件,促進了濺射工藝的整體效率。Reliant 2具有先進的控制和監控功能,允許用戶精確調整和優化沈積速率、目標功率、氣體流量和基板溫度等沈積參數。設備配備了方便用戶的界面,提供實時流程監控和數據記錄功能,使用戶能夠跟蹤和分析流程參數,以便進行流程優化和質量控制。DENTON VACUUM RELIANT 2的關鍵優點之一是它能夠容納廣泛的目標材料,包括金屬、氧化物、氮化物等等。該系統提供輕松的目標更改功能,使用戶能夠快速高效地在不同的目標材料之間進行切換。這種靈活性使得Reliant 2非常適合需要多種材料和薄膜結構沈積的研發應用。除了先進的濺射功能外,DENTON VACUUM Reliant 2還提供了一系列可選功能和升級,以滿足特定的應用要求。其中包括改善膜粘附和控制膜形態的基板加熱能力,以及實時表征膜性能的現場監測工具。該單元還可以與自動化和軟件控制系統集成在一起,以提高生產率和易於操作。總體而言,Reliant 2是一款先進的濺射機,它將尖端技術與用戶友好的操作相結合,提供高性能的薄膜沈積功能。無論是半導體器件制造、光學塗層應用,還是研發項目,DENTON VACUUM Reliant 2都提供了一個可靠、通用的解決方案,以實現質量和性能卓越的精確、均勻的薄膜塗層。
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