二手 EMITECH / EDWARDS K750 #293637250 待售

EMITECH/EDWARDS K750是一種用於在基板上沈積薄膜的濺射設備。它是一個多合一系統，包括一個等離子體源，用於控制沈積速率的組件，以及用於產生真空的壓力控制單元。內部組件由數字顯示器控制，並由PLC（可編程邏輯控制器）供電。EMITECH K750利用直流電力，由一個腔室和三個主要組成部分組成：靶子、基體和電離區。目標由濺射材料組成，安裝在帶有磁場的腔壁上。基板支架用於定位和支撐基板。電離區包含幾個高活性離子，這些離子是由室內的磁控管產生的。腔室還配備了幾個真空泵和閥門，用於控制腔室內的壓力。直流電源用於從目標表面濺射目標材料。在直流磁控管濺射中，目標材料被磁控管產生的離子轟擊。當離子撞擊目標時,它會釋放沈積在基材上的物質.通過控制磁控管的功率水平，可以調節濺射材料釋放的速率。EDWARDS K750設計用於潔凈室環境，易於集成到自動沈積系統中。它還具有用於精確溫度控制的熱電偶機.這意味著可以在各種應用中創建可重復和可靠的薄膜。綜上所述，K750是一種用於在基板上沈積薄膜的濺射工具。它具有一個直流電源、靶子、基體和電離區，用於為沈積過程產生離子。它設計用於潔凈室環境，易於集成到自動沈積系統中。此外，它具有精確的溫度控制和可重復和可靠的薄膜可以創建在各種應用。