二手 GILITEK IBS-1030-V2 #9395807 待售

GILITEK IBS-1030-V2是一種用於先進薄膜制造的濺射沈積設備.它是一個完全自動化的系統，具有易於使用的軟件和硬件控制。該單元提供先進的精密薄膜沈積功能,包括各種厚度控制選項。適用於半導體等薄膜應用。IBS-1030-V2配備了一個四軸機器人手臂、一個X-Y級和三個濺射源。這種組合使它能夠執行高級定向濺射沈積。這臺機器能夠在25微米厚的任何方向上進行薄膜沈積，ALD厚度控制精度為+/-5%（體積）。該工具有兩個或三個目標，每個目標都可以獨立控制。GILITEK IBS-1030-V2由GILITEK圖形用戶界面（GUI）控制。此GUI易於使用和定制,允許在按下按鈕時設置高效的薄膜沈積參數。通過使用此接口，操作員可以快速設置沈積配方，監控資產狀態，並在增長過程中檢查樣本圖像。該軟件還允許基於參數的沈積和調度、自動端點檢測（AED）、等離子體控制（PC）模式控制、厚度控制（TC）模式控制、上載圖像以進行過程/應用程序監控和校正以及將沈積的膠片屬性與平面參考進行比較的能力。IBS-1030-V2具有超純的沈積氣體、堅固的真空泵,並提供過程的靈活性和耐用性。該模型具有PLC輸入/輸出能力，具有高工藝重復性，多冷卻劑設備設計用於可靠的樣品溫度控制，以及集成的電子束形狀薄膜沈積系統。E-Beam通過改進同質性和較高的步長覆蓋能力來改進工藝結果。此外，該單元還提供業界領先的安全功能，維護設計低。易於安裝的風冷排氣過濾機、可調百葉窗和遠程關機能力為用戶提供了更多的便利。GILITEK IBS-1030-V2是一種先進的濺射工具,旨在為許多應用程序提供精確、高質量的薄膜沈積功能。這一資產快速、可靠、易用，為尋求高精度、高性能薄膜沈積的研究人員提供了絕佳選擇。